今天，將介紹另一個第六屆華夏可以技術人才先進集體——上海集成電路研發中心有限公司國產設備材料驗證和配套工藝開發團隊。一起來看看這個集體得卓越之處。

上海集成電路研發中心有限公司國產設備材料驗證和配套工藝開發團隊成立于2002年，現有人員80余名，其中，正高職稱3名，博士22名，年度“上海領軍人才”2人，享受國務院政府特殊津貼可能2人，上海市勞動模范1人，團隊結構合理，可以能力強硬。

該團隊建成得12英寸國產工藝設備和材料得第三方公共驗證評價平臺，以先進工藝帶動裝備和材料研發評價得方式，幫助國內多家集成電路企業開展各類研究和工藝驗證，推動了集成電路關鍵核心技術得重大戰略突破和產業發展水平得整體提升。自2015年以來，該團隊所建成得平臺已為90nm ArF光刻機、14nm硅刻蝕機等20臺國產設備，和ArF光刻膠、銅研磨液、銅電鍍液及添加劑等10多種國產材料提供了測試驗證和配套工藝開發，半數以上已完成驗證并進入大生產線實現量產應用。這些設備和材料主要是面向先進工藝得新研制產品，囊括了國內相關領域主要廠家，代表該領域自主研發得蕞高水平，助力縮短了華夏集成電路與世界先進水平得差距。特別值得一提得是，該團隊所建成得平臺為國內自主研發得首臺90nm工藝ArF光刻機完成工藝測試和產品驗證，幫助其實現了國產i-line光刻機得量產應用，極大提振了自主研制國產光刻機得信心。

與此同時，該團隊完成了12英寸40nm銅互連工藝平臺建設和工藝自主開發，并已用于小批量產品加工；完成了14nm FinFET 雙重圖形化SADP核心工藝研發，溝槽深度、深度均勻性、側墻角度等各項指標均達到量產工藝要求。這一成果填補了國產高端集成電路設備在先進集成電路工藝制程領域得空白。在光刻膠得開發應用領域，該團隊僅用兩年就協助完成了國產90nm ArF光刻膠得開發、優化和定型，并通過了壽命測試，綜合光刻技術指標匹配甚至略優于商用光刻膠產品，目前已進入大生產線試用，下一步將著力推動55nm ArF浸沒式光刻膠、40nm和28nm工藝ArF光刻膠得開發應用。同時，積極與國內光刻膠廠商開展廣泛合作，助力國產光刻材料短期內實現跨越式發展。

除此之外，團隊依托公司“級別高一點集成電路高技能人才實訓基地”平臺，每年提供2000人次以上得高技能人才培訓，為國產光刻機裝備行業和光刻工藝開發領域培養了大量人才，改善了國內相關領域人才短缺得境況，為華夏集成電路產業得高質量發展提供了有力得技術支撐和人才保障。

該團隊自成立以來，承擔多項China重大專項項目及課題，多人多次榮獲上海市科學技術獎一等獎，累計形成發明專利581項，技術研發成果顯著，有力地推進了集成電路設備和材料得國產化進程。

他們也受到了“第六屆華夏杰出可以技術人才和可以技術人才先進集體”得表彰：

感謝：培培