研磨盤(pán)在很多方面都起著一個(gè)相當(dāng)大的作用，就比如：隨著光學(xué)和電子學(xué)的不斷融合，光電器件的需求越來(lái)越大，對(duì)其中關(guān)鍵零件表面的質(zhì)量要求越來(lái)越高，其制造材料開(kāi)始普遍采用光學(xué)玻璃、工程陶瓷等硬脆材料，如何實(shí)現(xiàn)這些硬脆材料零件表面的超廣滑拋光已經(jīng)成為精密微細(xì)加工領(lǐng)域的的一個(gè)重要研究課題。如微電子行業(yè)的硅片加工，從目前主流的8英寸硅片逐漸發(fā)展到12英寸，其表面的超光拋滑光是超精密加工的一個(gè)挑戰(zhàn)。又如光學(xué)透鏡、反射鏡等各種光學(xué)表面不僅需要很高的面形精度還需要超光滑的表面而且對(duì)次表明損傷也需要嚴(yán)格控制，包括手機(jī)、電視等各種液晶顯示屏的背光板也需要超光滑拋光。光學(xué)元器件在光纖通信、國(guó)防、醫(yī)療、辦公自動(dòng)化等領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，隨著信息電子化、光電信號(hào)傳輸?shù)母咚倩痛笕萘炕诤想娮蛹夹g(shù)和光學(xué)技術(shù)的電子圖像傳輸處理技術(shù)越來(lái)越重要，為適應(yīng)今后多媒體網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)發(fā)展的需要，必須在光學(xué)元器件加工技術(shù)方面尋求新突破。在其他一些領(lǐng)域如高密度磁記錄器件和光記錄器件等制造方面，也存在對(duì)超光滑表面的巨大需求。

目前多數(shù)光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠家都會(huì)進(jìn)行研磨后和鍍磨前兩次清洗其中研磨后主要清洗瀝青（漆片）和研磨粉，鍍膜前主要清洗求芯油（磨邊油）、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者最大的區(qū)別在于前者對(duì)無(wú)機(jī)污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者使用的半水機(jī)清洗劑對(duì)于無(wú)機(jī)物污染物的清洗效果也比較好；兩者的共同特點(diǎn)是對(duì)于有機(jī)物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時(shí)對(duì)鏡片的安全性極高。

威固特研磨盤(pán)超聲波清洗設(shè)備，對(duì)研磨光學(xué)玻璃而言在生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過(guò)程中會(huì)有漆片。其中研磨粉的型號(hào)各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過(guò)程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗大致用到超聲波清洗機(jī)設(shè)備。

    想以高質(zhì)量、高標(biāo)準(zhǔn)的要求呈現(xiàn)出更加完美的狀態(tài)，都來(lái)自于過(guò)程中的嚴(yán)格處理再達(dá)到滿意的效果。研磨盤(pán)在各方面發(fā)揮的作用，也需要一定的處理。威固特超聲波清洗設(shè)備獨(dú)特的外沿設(shè)計(jì)，清洗槽外沿覆蓋一層特殊塑料，即美觀又能防腐，防湯。清洗槽采用加厚特殊不銹鋼制作而成，更加經(jīng)久耐用。選用國(guó)際名牌高性能換能器，清洗效力更強(qiáng)勁。內(nèi)置頻率掃描功能，有效消除清洗死角，使清洗效果更優(yōu)化。超聲功率大，噪聲小。